文章详情
各种溅射镀膜方法的原理及特点
日期：2024-05-18 13:54
浏览次数：386
摘要：各种溅射镀膜方法的原理及特点
各种溅射镀膜方法的原理及特点
溅射镀膜的基本原理就是让具有足够高能量的粒子轰击固体靶表面使靶中的原子发射出来，沉积到基片上成膜。溅射镀膜有多种方式，其典型方式如表4 所示，表中列出了各种溅射镀膜的特点及原理图。
从电极结构上可分为二极溅射、三极或四极溅射和磁控溅射;射频溅射适合于制备绝缘薄膜;反应溅射可制备化合物薄膜；中频溅射是为了解决反应溅射中出现的靶中毒、弧光放电及阳极消失等现象;为了提高薄膜纯度而分别研制出偏压溅射、非对称交流溅射和吸气溅射;为了改善膜层的沉积质量，研究开发了非平衡磁控溅射技术。
表4 各种溅射镀膜方法的原理及特点
上海卷柔新技术光电有限公司是一家专业研发生产光学仪器及其零配件 的高科技企业，公司成立２００５年，专业的光电镀膜公司，公司产品主要涉及光学仪器及其零配件的研发和加工；光学透镜、反射镜、棱镜等光学镀膜产品的开发和生产，为全球客户提供上等的产品和服务。
采用德国薄膜制备工艺，形成了一套具有严格工艺标准的闭环式流程技术制备体系，能够制备各种超高性能光学薄膜，包括红外薄膜、增透膜，ARcoating, 激光薄膜、特种薄膜、紫外薄膜、x射线薄膜，应用领域涉及激光切割、激光焊接、激光美容、医用激光器、红外制导、面部识别、VR/AR应用,博物馆，低反射橱窗玻璃，画框等。 