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  • 产品名称:AF镀膜液

  • 产品型号:
  • 产品厂商:卷柔
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简单介绍:
AF镀膜液
详情介绍:


在目前主流的工艺方案中,几乎所有的手机镜头镀膜都会涉及到AF,本节就AF的成分,工作原理及制备工艺进行讲述。    
1.    AF膜的直观作用
镀了AF的膜面通常会处于镜头的外侧,要经受各种考验:不同习惯动作的人手抚摸,指甲刮擦,油盐酱醋的腐蚀,日晒风吹雨淋,各种布料口袋的摩擦,钥匙等硬物的伤害等等。为了保持摄像头拍照质量始终不受影响,薄膜必须具有一定的硬度要求,必须可以防水防潮,必须可以耐摩擦,必须尽可能防污且易被清洁,而AF膜可以*大程度的提升常规薄膜的这些能力。
由于这些优点,手机外壳镀膜也会大量用到这种技术,且一直是智能手机产品外观设计的一大重点。加硬,耐摩擦,防水防潮,防污耐腐蚀,易被清洁,是手机业界一直在研究的技术。
2.    AF膜的成分及工作原理
AF是Anti-Fingerprint的缩写,字面意思是抗指纹膜,表示的是一种能力,具备抗指纹效果,抗污能力强,且易清洁。在讲述原理之前,有必要先介绍下表面能。
决定物体表面防污防水的关键因素物体的表面能。直接影响着表面物质的粘附性(易沾脏污指纹的程度),液体与表面的粘湿性和渗透性。物质的表面能可以通过接触角计算得到。接触角θ越小,表面能越大,物体表面越湿润;接触角θ越大,表面能越小,物体表面越不湿润,表面“不粘”,从而易于清洁。
下表为常见基底材质的表面能。AF表面能*小,接触角度*大,也就是防污、防水性能*佳。而氧化钛膜的表面能为111*大,水接触角越小,防污防水效果*差。手机上常用的材料铝、钢和玻璃表面能偏大,粘附性较强。
目前已知的低表面能材料有机硅和有机氟材料,其分子集团的表面能从大到小依次为:
-CH2->-CH3>-CF2->C-F2H>-CF3
其中,-CF3基团的表面能小至6.17mJ/m2,计算得到接触角为115.12°,为目前已知*大分子排斥之接触角。
业界普遍认为,氟材料是目前**能达到用户需求且长期使用的产品;短期内还是以氟材料为主,可以暂且将AF技术理解为氟技术。下表为某种AF材料的成分表。

需要补充说明的是,自然界中存在的荷叶自洁效应,其本质是表面有一层超微纳米结构层,如下图所示。虽然都表现为大的水滴接触角,但其原理与AF膜不同。

3.    AF膜类别
目前氟材料在AF上面的应用,已接近一个材料的极限了,再做突破难度很大。从大类划分,低表面能的氟材料主要分为两大类:可固化树酯类膜和自我限制表面反应类膜层。下表对这两种膜层的特性进行了总结。对于手机摄像头,目前主流工艺是采用自我限制类有机氟化物。


自我限制表面反应类膜层按产品应用通常分为两大类。一类是硅表面的氟,水滴角大于115°,动摩擦系数小于0.03。硅表面的氟材料通常会用在玻璃、阳极氧化、金属等材质。以现在技术发展来看,常见的固体表面都能做上去。另外一类是塑料表面的氟化物,比如PC、PMMA、ABS等水滴角通常大于105°。
在全球范围内,比利时Solvay和大金是AF技术的**厂家,其他如度恩、PPG、信越、富士康、旭硝子、巴斯夫等也有能力生产。
4.    AF膜检测标准
对于AF膜,目前主要有三种评价测试方法。
a.  接触角测试:可以很快判定是否具备AF效果以及是否失效。
b.  动摩擦测试:水滴角及感官体验。
c.  耐摩擦测试。
虽有测试方法,但具体实施标准比较混乱。华为,苹果、三星等各有标准。苹果认为产品表面的摩擦是刚性的,接触的都是刚性物品,如钥匙和纽扣等,因此测试方法倾向于用钢丝绒。三星讲究感官体验。认为软的东西如手指和布料等是AF表面的重要接触物,所以倾向于用工业橡皮来测试;并希望做到表面触感顺滑。
5.    AF膜制备工艺
目前*常用的是硅表面氟材料,它由低表面能氟化基团和表面反应基团两种官能基团所组成。当有机氟化物接触到物质表面后,表面反应基团将对对应的表面官能基进行化学反应,产生化学键结,然后成膜。自我限制有机氟化物的主要反应基团是与沉积玻璃(主要成分是SiO2)表面的羟基(Si-OH)进行缩合反应,但是手机金属表面并无Si-OH,所以若要在金属或其他材料上使用此类的有机氟化物,必须先在镀一层 SiO2,再镀低表面能的有机氟化物,如下图所示。

市场有多种型号的AF药丸,不同型号的性能有明显差异,装药量也会有明显区别。实际应用时也要依据*终客户的判定标准进行慎重选择。
蒸发AF通常有两种方法,一种是石墨坩埚,一种是蒸发舟。对于石墨坩埚, 度恩官方曾给出了石墨坩埚电子束蒸发时的注意事项,详见下图所示。

须注意电子束轰击位置,并控制束流,束流一般在50mA左右,过大的束流或位置不对很容易造成AF受热分解,导致镀膜失效。除此外,还要注意以下事项。
a.   AF药丸拆开包装后须立即使用。拆开长久放置药性会挥发失效;
b.   结合层SiO2的厚度以15-20nm为宜,建议不能太致密,便于AF药化学键结成型;
c.   结合层结束后镀AF,建议速率0.8nm/S。为保证AF充分发挥其效果,实际镀膜中可能需要适当增加膜层厚度,不一定局限于厂家给出的15~20nm的参考厚度;
d.   成膜后取出镜片,常温静置120min以上,让薄膜充分老化。
6.    总结
补充一下,硬度也是手机薄膜很重要的一个指标。硬度与基板本身材质特性有很大关系。一般情况下,同样工艺镀膜条件下,较硬的基板表面,可以得到硬度更高的测试结果。市场上专用的加硬液,可以涂在基板表面,进行表面改性,提高硬度,通常称为HC膜。与AF配合使用,可以大幅度提高薄膜的测量硬度。




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