从 CHIPS法案到国产替代政策倒逼下聚酰亚胺光刻胶产业的双向突围
从 CHIPS法案到国产替代政策倒逼下聚酰亚胺光刻胶产业的双向突围
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上海卷柔新技术光电有限公司是一家专业研发生产光学仪器及其零配件的高科技企业,公司2005年成立在上海闵行零号湾创业园区,专业的光电镀膜公司,技术背景依托中国科学院,卷柔产品主要涉及光学仪器及其零配件的研发和加工;光学透镜、反射镜、棱镜,平板显示,安防监控等光学镀膜产品的开发和生产,为全球客户提供上等的产品和服务。
从 CHIPS 法案到国产替代:政策倒逼下,聚酰亚胺 / 光刻胶产业的 “双向突围”
摘要:本文聚焦于在 CHIPS 法案等国际政策冲击下,我国聚酰亚胺与光刻胶产业面临的严峻挑战与迎来的发展契机。深入剖析产业在政策倒逼下,于技术研发、市场拓展层面的 “双向突围” 策略与成果。通过梳理政策导向、技术突破进展、市场供需格局变化,展现产业在逆境中砥砺前行,力求实现国产替代、提升国际竞争力的发展态势,为相关从业者、投资者及关注者提供**洞察产业发展的视角。
一、引言
在全球半导体产业竞争白热化的当下,半导体材料作为产业根基,其重要性不言而喻。聚酰亚胺与光刻胶,分别在半导体制造的多个环节以及图形化转移的关键步骤中,扮演着不可或缺的角色。然而,随着美国 CHIPS 法案的出台,全球半导体产业格局被强行搅动,我国聚酰亚胺与光刻胶产业陷入了****的困境,但也由此开启了 “双向突围” 的奋进征程。
二、CHIPS 法案冲击:产业之殇与破局之迫
(一)法案核心条款及其对产业的限制
2022 年 8 月,美国正式签署 CHIPS 法案,该法案涵盖 527 亿美元的补贴以及约 240 亿美元的税收抵免,旨在吸引全球半导体企业赴美设厂,重塑半导体供应链格局。其中,诸多条款对我国半导体产业发展构成明显限制,如限制受补贴企业在中国大陆进行先进制程投资等,对我国半导体材料产业的技术交流、设备采购、人才流动等方面均产生连锁负面影响。对于聚酰亚胺和光刻胶产业而言,从上游原材料供应、中游技术研发合作,到下游市场拓展,均面临层层阻碍。
(二)对聚酰亚胺与光刻胶产业现有格局的冲击
1.供应链断裂风险加剧:在聚酰亚胺产业,我国部分**原材料如特定二酐单体依赖进口,法案促使美国及相关盟友对原材料出口管控趋严,导致供应不稳定,企业面临断供危机,生产节奏被打乱。例如,国内一些生产电子级聚酰亚胺薄膜的企业,因关键原材料供应受阻,产能利用率大幅下降。
2.技术封锁升级:光刻胶产业深受其害,我国光刻胶企业在获取国外先进光刻技术、研发设备以及参与国际技术研讨等方面受到重重限制。**光刻胶研发本就依赖国际间技术交流与合作,法案实施后,技术迭代步伐明显放缓,与******差距进一步拉大。如 EUV 光刻胶研发,我国企业在光刻光源、光化学机理研究等关键环节,因技术封锁难以取得突破性进展。
三、政策**:国产替代的号角与行动指南
(一)国家层面政策扶持体系构建
面对外部压力,我国迅速从国家战略高度布局,出台一系列政策助力半导体材料产业发展。“十四五” 规划明确将半导体材料列为重点攻坚领域,为聚酰亚胺和光刻胶产业发展指明方向。国家集成电路产业投资基金(大基金)持续发力,一、二期已累计投入数千亿元,初步搭建半导体产业链。如今,注册资本高达 3440 亿元的大基金三期成立,明确将光刻胶等关键材料作为重点投资对象,计划投入超 500 亿元用于支持研发及产业化,为产业注入强大资金动力。
(二)地方政府因地制宜的配套政策
各地政府积极响应,结合自身产业基础与优势,推出一系列配套政策。以长三角地区为例,部分城市对入驻半导体材料产业园区的聚酰亚胺和光刻胶企业,给予土地优惠、税收减免等政策。如苏州工业园区,对符合条件的企业,前三年免征企业所得税,后三年减半征收;对购置先进生产设备的企业,给予设备投资额 10%-20% 的补贴。同时,鼓励企业与高校、科研院所合作,对产学研合作项目给予资金支持,加速科技成果转化。
四、技术突围:打破“卡脖子” 枷锁的奋进之路
(一)聚酰亚胺技术突破进展
2.产品性能提升与应用拓展:在 5G 通信领域,针对高频高速信号传输需求,企业着力研发低介电常数、低介电损耗的聚酰亚胺材料。如瑞华泰研发的低介电聚酰亚胺薄膜,介电常数低至 2.8,满足 5G 基站天线、高速通信线缆等应用场景需求,已实现量产并供应市场,逐步替代进口产品。在新能源汽车领域,聚酰亚胺凭借其耐高温、高绝缘特性,在电池系统、电机绝缘等方面应用潜力巨大。国内企业与车企合作,开发适用于新能源汽车的聚酰亚胺基复合材料,提升汽车**性与可靠性。
(二)光刻胶技术攻关成果
1.**光刻胶研发突破:大基金助力下,国内光刻胶企业加大研发投入,在**光刻胶领域取得关键突破。宁波南大光电在大基金二期注资 1.833 亿元后,全力推进 ArF 光刻胶产品开发与产业化项目。目前,已组建国际水平研发团队,建成年产 25 吨 ArF 光刻胶生产线,并通过部分芯片制造企业认证,成为国内头个实现 ArF 光刻胶量产的企业,打破国外在该领域的垄断局面。
2.光刻胶配套材料与技术协同发展:光刻胶研发并非孤立,配套材料与技术同样关键。国内企业在光刻胶树脂、光引发剂等关键原材料研发上取得进展,如容大感光在光刻胶树脂合成技术上不断**,提升树脂纯度与性能稳定性,降低对进口原材料的依赖。同时,在光刻工艺与设备适配方面,国内企业与光刻机厂商紧密合作,优化光刻工艺参数,提高光刻胶成像精度与质量,实现光刻胶与光刻设备的协同发展。
五、市场拓展:国产替代加速与国际市场破局
(一)国内市场国产替代进程加速
1.下游企业对国产材料的接纳与验证:在政策引导与国产材料性能提升双重作用下,国内下游晶圆厂、电子制造企业对国产聚酰亚胺和光刻胶接纳度显著提高。中芯国际、长江存储等国内晶圆制造龙头企业,积极参与国产光刻胶验证工作,缩短认证周期至 2 年以内,优先选用符合要求的国产光刻胶,为国产光刻胶企业打开市场通路。在聚酰亚胺薄膜应用领域,如国风新材生产的电子级聚酰亚胺薄膜,已获得国内多家柔性电路板、芯片封装企业认可,实现批量供货,逐步替代进口产品。
2.国产材料市场份额增长态势:随着国产材料技术成熟与市场验证,市场份额呈现快速增长态势。在光刻胶市场,2025 年国产光刻胶产能规划达 15 万吨 / 年,预计 2025-2030 年,国产光刻胶在国内市场的占有率将从当前不足 5% 提升至 15%-20%。聚酰亚胺薄膜领域,国内企业市场份额也在逐步扩大,2024 年中国 PI 膜需求总量为 10,195 吨,国产替代率逐步提升,尽管**市场仍由外资主导,但国产材料在中低端市场已占据一定优势,并向**市场稳步渗透。
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上海卷柔新技术光电有限公司是一家专业研发生产光学仪器及其零配件的高科技企业,公司2005年成立在上海闵行零号湾创业园区,专业的光电镀膜公司,技术背景依托中国科学院,卷柔产品主要涉及光学仪器及其零配件的研发和加工;光学透镜、反射镜、棱镜,平板显示,安防监控等光学镀膜产品的开发和生产,为全球客户提供上等的产品和服务。
采用德国薄膜制备工艺,形成了一套具有严格工艺标准的闭环式流程技术制备体系,能够制备各种超高性能光学薄膜,包括红外薄膜、增透膜,ARcoating,激光薄膜、特种薄膜、紫外薄膜、x射线薄膜,应用领域涉及激光切割、激光焊接、激光美容、医用激光器、光学科研,红外制导、面部识别、VR/AR应用,博物馆,低反射橱窗玻璃,画框,工业灯具照明,广告机,点餐机,电子白板,安防监控等。
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