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手机防蓝光贴膜到底有用吗?真相在此

日期:2020-09-20 21:29
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摘要:手机防蓝光贴膜到底有用吗?真相在此

手机防蓝光贴膜到底有用吗?真相在此

着5G技术的快速发展,陶瓷将凭借它无信号屏蔽以及良好的机械性能成为5G时代*受关注的材料,未来陶瓷的市场前景将非常广阔。而陶瓷产品的表面处理就需要到PVD镀膜工艺。目前,陶瓷产品的镀膜工艺以蒸镀和溅射镀为主,在陶瓷产品上镀Logo或颜色膜以及AF处理,下面我们一起来了解一下这两种镀膜工艺。

图 手机陶瓷后盖PVD镀Logo 摄于三环展台

真空蒸发镀膜

真空蒸发镀膜是在真空条件下,加热蒸发物质使之气化并沉淀在基片表面形成固体薄膜。

图 真空蒸发镀膜原理图

真空蒸发镀膜的基本工艺流程:

镀前准备→抽真空→离子轰击→烘烤→预熔→蒸发→取件→膜层表面处理→成品

图 真空蒸发镀膜的工艺流程图

真空蒸发镀膜的特点:

优点:设备简单易操作,制成的薄膜纯度高、质量好,厚度可较准确控制,成膜速率快,效率高,薄膜生长机理比较简单。

缺点:所形成的薄膜在基材上附着力较小,工艺重复性不够好,不易获得结晶结构的薄膜。

磁控溅射镀膜

磁控溅射镀膜原理:

电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。

图 磁控溅射原理

磁控溅射主要工艺流程:

(l)基片清洗,主要是用异丙醇蒸汽清洗,随后用乙醇、丙酮浸泡基片后快速烘干,以去除表面油污;

(2)抽真空,真空须控制在2×104Pa以上,以保证薄膜的纯度;

(3)加热,为了除去基片表面水分,提高膜与基片的结合力,需要对基片进行加热,温度一般选择在150℃~200℃之间;

(4)氩气分压,一般选择在0.01~1Pa范围内,以满足辉光放电的气压条件;

(5)预溅射,预溅射是通过离子轰击以除去靶材表面氧化膜,以免影响薄膜质量;

(6)溅射,氩气电离后形成的正离子在正交的磁场和电场的作用下,高速轰击靶材,使溅射出的靶材粒子到达基片表面沉积成膜;

(7)退火,薄膜与基片的热膨胀系数有差异,结合力小,退火时薄膜与基片原子相互扩散可以有效提高粘着力。

图 磁控溅射镀膜工艺流程图

依据溅射源的不同,磁控溅射有直流和射频之分,两者的主要区别在于气体放电方式不同,射频磁控溅射利用的是射频放电,陶瓷产品使用的是射频磁控溅射镀。

磁控溅射镀膜的特点:

优点:薄膜纯度高,致密,厚度均匀可控制, 工艺重复性比较好,附着力强。

缺点:设备复杂,靶材利用率低下。

上海卷柔新技术光电有限公司是一家专业研发生产光学仪器及其零配件 的高科技企业,公司成立2005年,专业的光电镀膜公司,公司产品主要涉及光学仪器及其零配件的研发和加工;光学透镜、反射镜、棱镜等光学镀膜产品的开发和生产,为全球客户提供上等的产品和服务。

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